Корпорация FUJIFILM объявляет о выпуске нового объектива FUJINON XF 55–200 мм.F3.5–4.8 R LM OIS для компактных камер FUJIFILM X-Pro1 и FUJIFILM X-E1. Новый объектив FUJINON XF 55–200 мм позволяет создавать чёткие снимки без потери разрешения по краям кадра при любой кратности зума. Быстрая диафрагма F3.5–4.8 гарантирует отличный результат при съемке сцен, где требуется мгновенное срабатывание затвора. Скорость затвора можно даже уменьшить на 4,5 шага благодаря функции стабилизации изображения, которая предотвращает появление на фотографии размытостей, вызванных дрожанием камеры при съемке без штатива в условиях плохой освещенности или с малым открытием диафрагмы. Кроме того, объектив оснащен двумя линейными двигателями, которые обеспечивают фокусировку на объекте за 0,28 секунды.

 FUJINON XF 55–200mm

Ключевые особенности FUJINON XF 55–200 мм/F3.5–4.8 R LM OIS:

  • Высококачественная оптика позволяет создавать качественные снимки на всем диапазоне фокусных расстояний — от среднего (84 мм, в 35 мм эквив.) до большого (305 мм, в 35 мм эквив.) и, несмотря на компактный размер объектива, обеспечивает максимальное раскрытие диафрагмы F3.5–4.8.
  • Система стабилизации изображения эффективно обнаруживает даже мельчайшее дрожание камеры и устраняет его последствия, благодаря чему скорость затвора можно уменьшить на 4,5 шага.
  • Два бесшумных в работе линейных двигателя гарантируют высокоскоростную фокусировку, что делает этот объектив подходящим выбором даже для видеосъемки.
  • Объектив оборудован двумя нерассеивающими линзами, одна из которых (класса Super ED) по своим характеристикам максимально приближена к флюоритовым линзам. Они помогают свести к минимуму хроматические аберрации, обычно возникающие на длинных фокусных расстояниях, поэтому при любой кратности зума сохраняется высокое разрешение фотографий даже по краям кадра.
  • Запатентованное покрытие FUJINON HT-EBC на поверхности объектива предотвращает появление бликов и радужных ореолов.
  • Минимальное рабочее расстояние 1,1 м на всём диапазоне зуммирования позволяет запечатлевать мелкие детали объекта крупным планом.
  • Объектив оснащен кольцом управления диафрагмой с шагом 1/3EV, которое позволяет легко настраивать диафрагму, не отрываясь от видоискателя
  • Кольца управления фокусировкой и диафрагмой выполнены из металла, напоминают о высоком качестве камеры и одновременно повышают ее надежность.

Новая прошивка ускорит автоматическую фокусировку в моделях X-Pro1 и X-E1

Одновременно с выпуском объектива XF 55–200 мм F3.5–4.8 R LM OIS компания Fujifilm обновит прошивку камер X-Pro1 и X-E1. Благодаря новому алгоритму эта прошивка позволит более полно использовать преимущества объективов и повысит скорость работы контрастного автофокуса на всем диапазоне фокусных расстояний. Скорость фокусировки достигнет значения 0,7 с даже если поиск выполняется в диапазоне от бесконечности до значения MOD при телефотосъемке.

Кроме того, обновление прошивки повысит скорость автофокусировки камер X-Pro1 и X-E1 при использовании других объективов серии XF.
Файлы прошивки станут доступны для скачивания на сайте Fujifilm сразу после выпуска в продажу объектива XF55–200 мм F3.5–4.8R LM OIS.